半导体行业清洗超纯水设备--广东深圳厂家

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本方案涉及的流程及设备是为了满足生产工艺用高纯水项目，要求如下：

    1、纯水水量 18MΩ.cm   8m3/h

    2、二级反渗透+EDI超纯水统制备的主要技术参数：

        A.前处理产水量 : ≥14m3/h；

        B.反渗透设备二级反渗透产水量 : ≥10m3/h；

        C.EDI去离子系统产水量 : ≥8m3/h；

    3、产水水质指标：8m3/h ≥18 MΩ·cm （参照国标EW-Ⅱ），供水压力 0.35Mpa，尘粒直径： 0.5，1ea以下/100ml以下，温度：常温；

    4、系统配置：预处理、二级反渗透、EDI电再生连续除盐装置。

    5、供水方式：连续产出（24小时运行）。

 二、5吨EDI超高纯水设备设计依据

     1、本电子工业纯水站工程项目设计依据如下：

    1.1.原水水质分析资料；

    1.2.高纯水的品质要求（产品水水质指标），以及相关国家标准；

     1.3.高纯水的生产规模;

    1.4.用户对系统整体水准要求。

    2、原水水质资料和技术指标

    2.1 表1. 原水水样水质分析报告（供参考）：检测报告表；原水：市政自来水；检测结果：无

    2.2 电子级水国家标准