石材抛光原理主要体现在两个方面:颗粒研磨原理;物理化学原理。 颗粒研磨:当磨料颗粒由粗磨到粗磨、抛光时，磨料在石材表面的研磨痕迹由粗到细再到无肉眼可见的痕迹，表面就会光滑、光滑、细腻，当深度达到110微米时，表面被加工成镜面光泽、有光泽、色泽鲜艳。 微磨削包括以下过程: (1)粗磨:磨削工具深度大，磨削效率高，磨削线条粗，磨削表面粗糙，主要去除产品在前道工序中留下的一些锯片痕迹和产品的平整度，使磨削成形面到位; (2)半精磨:去除粗磨痕迹，形成新的细粒，产品加工表面光滑、光滑; (3)细磨:经过细磨后，产品的花纹、颗粒、颜色已经清晰地显示出来，表面细密光滑，开始有微弱的光泽; (4)精磨:加工后的产品，肉眼检测不出痕迹。表面越来越光滑，光泽度在40~50度左右; (5)抛光:表面光亮如镜面抛光机，石材抛光机的原理有一定的镜面光泽度(85度以上)。 2.理化原理:抛光工艺有两种，即“干湿抛光”和“湿抛光”，抛光磨盘作为石材产品之间发生“干湿”的物理化学反应，干抛光是使石
